TI中文支持网Hi：
我更新ti最新的SDK后。烧写板子启动。运行opencv时一直打印下面的错误
[ 101.204155] omap_hwmod: mmu0_dsp2: wait_target_disable failed
[ 101.210047] omap-iommu 41501000.mmu: 41501000.mmu: version 3.0
[ 101.216118] omap-iommu 41502000.mmu: 41502000.mmu: version 3.0
[ 101.230313] omap_hwmod: mmu0_dsp1: wait_target_disable failed
[ 101.236196] omap-iommu 40d01000.mmu: 40d01000.mmu: version 3.0
[ 101.242444] omap-iommu 40d02000.mmu: 40d02000.mmu: version 3.0
有谁知道，这是什么原因？？
Jian Zhou：
是用的SDK自带的openCV库么？我们测过没有问题啊
Pengpeng Xu：
我也遇到这样的问题，请问你解决了吗？
Denny%20Yang99373：
能否得到正确运行结果？
Pengpeng Xu：
回复 Denny%20Yang99373:
opencv在使用opencl时没有加速效果，同样的程序在PC上能得到明显加速效果。
Pengpeng Xu：
回复 Denny%20Yang99373:
我的测试结果：
PC环境测试：
形态学腐蚀算法：
erode(in_image, out_image, element);
算法循环次数 10000次。
使用Opencl 耗时28999ms
未使用Opencl耗时 82914ms
dilate_opencl(in_image, out_image, element);
算法循环次数10000次。
使用Opencl 耗时28234ms
未使用Opencl耗时 89367ms
Sobel(src, dst_x, src.depth(), 1, 0);
Sobel(src, dst_y, src.depth(), 0, 1);
convertScaleAbs(dst_x, dst_x);
convertScaleAbs(dst_y, dst_y);
addWeighted(dst_x, 0.5, dst_y, 0.5, 0, dst);
算法循环次数100次。
使用Opencl 耗时1201ms
未使用Opencl耗时 40058ms
AM5728开发板测试
形态学腐蚀算法：
erode(in_image, out_image, element);
算法循环次数10000次。
使用Opencl 耗时166225ms
未使用Opencl耗时 165889ms
dilate_opencl(in_image, out_image, element);
算法循环次数10000次。
使用Opencl 耗时167123ms
未使用Opencl耗时 166283ms
Sobel(src, dst_x, src.depth(), 1, 0);
Sobel(src, dst_y, src.depth(), 0, 1);
convertScaleAbs(dst_x, dst_x);
convertScaleAbs(dst_y, dst_y);
addWeighted(dst_x, 0.5, dst_y, 0.5, 0, dst);
算法循环次数100次。
使用Opencl 耗时14573.1ms
未使用Opencl耗时 14536.6ms
